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电子工业的发展促进了钽材料的应用

发布时间:2017/5/9 17:53:52      作者:山东省华纳稀有金属回收有限公司      点击:34

回收废钽

  随着大数据时代的来临,对于大数据的存储,成为人们关心的问题。在电子行业迅速发展的今天,钽材料正以惊人的速度发展着。钽电容器是雷达、宇航飞行器、导弹不可缺少的电子元件之一,并且广泛应用与民用,如移动通信、电子设备、仪器等方面相结合。同时,电子工业的发展对钽电容器小型化及高可靠性的要求越来越严格。


  电容器级钽丝(capacitorgradetantalumwire)电容器级钽丝是用于制作钽电解电容器阳极引线的钽丝。其优点是氧化膜介电常数大,可靠性高。与冶金级钽丝相比,电容器级钽丝化学纯度高,表面光洁度好,抗氧脆性好。电容器级钽丝是以钽粉为原料利用粉末冶金方法烧结成钽条后,再经过轧制、拉拔等金属塑性加工手段制成的,表面应光滑、清洁,无沟槽、毛刺等缺陷。


  电容器级钽丝的重要性能指标包括抗拉强度、直线度、化学成分和漏电流等。电容器级钽丝的直径一般在Φ0.15mm~Φ1.0mm之间,抗拉强度一般在400Mpa~1700Mpa之间。


  钽靶材(tantalumtarget)


  熔点2996℃,密度16.68g/cm3,导热系数(25℃):54(W/M.K),回收废钽厂商利用钽靶用熔炼钽锭加工或粉末冶金加工法制备。钽靶的纯度>99.95%,表面光滑,晶粒直径<100μm,晶粒织构主要是[111]型织构。由于钽具有高导电性、高热稳定性和对外来原子的阻挡作用,故用溅射镀膜法在集成电路上镀上钽膜,可做为防止铜向基体硅中扩散的阻挡层。因而作为电极材料和表面工程材料(BM),钽靶材已经被广泛应用于液晶显示器(LCD)以及耐热耐腐蚀高导电等镀膜工业中。


  钽溅射靶材已成为半导体产业的关键原材料,具有不可替代性,应用前景十分广阔。钽溅射靶材利用物理气相沉积技术完成。具体过程包括:高压加速的气态离子轰击钽靶表面,使靶材表面原子获得足够能量而发生挣脱,溅射到硅片上,并利用光刻、腐蚀等工艺最终形成半导体芯片中精密的配线结构。钽材料可用于各种薄膜的应用,作为扩散阻挡层材料应用于内存设备,如MOSFET器件的栅电极和打印头设备上的保护涂层。


  钽靶材溅射过程示意图


  生产案例


  目前国外从钽电容的回收废钽厂商很多,如AVX公司,在世界11个国家设有20家生产厂,5家研发中心,产品包括陶瓷电容器和钽电容器、薄膜电容器、定时器件、铁氧体器件、集成无源元器件和接插件等等。产品广泛应用于:计算机,手机,通讯,汽车,导弹军工,航空航天,工业仪器,医疗器械,民用消费品等领域。


  主要钽电容如下:


  ①贴片钽电容:


  ②插件钽电容:


  AVX钽电容的TAP钽电容的表面涂层能达到专业级的阻燃标准,具有低泄漏电流、低阻抗、较小的物理尺寸和稳定的温度特性。TAP钽电容系列钽电容有15例宽范围电容的尺寸和工作电压范围是指TAP可容纳几乎所有的应用程序。


  ③军用钽电容:


  主要有AVX军工钽电容TAZ-CWR19系列,TBW系列保险钽电容,TBC系列钽电容。

本文出自:www.huanajs.com

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